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日本mitakakohki半導體全周長三維測量儀MLP-3 非接觸式全的方位輪廓測量：MLP-3 專門從事傳統坐標測量機、投影儀和激光顯微鏡無法實現的復雜測量。點自動對焦探頭和每個軸的控制（包括旋轉）解決了困擾測量人員的問題。
更新時間：2024-08-24
日本orc半導體UV照射器VUM-3500 用途：消除閃存和其他非易失性存儲器、圖像傳感器等的電荷和數據 特長 -采用最的適合去除電荷的254nm波長。 -因為是單一波長可使低溫處理成為可能。 -采用低入射角UV光，可以有效到達對象區域。 -降低了LSI的不良率?提高了信賴性。
更新時間：2024-08-24
日本orc半導體光刻機 PPS-8200p1/8300p1 用途：支持各種應用 特長 -寬頻譜光刻 (與菜單連動的 ghi線 gh線, i線的自動切換) -搭載可變NA功能 (可變為0.16和0.1) -最多8Field的拼接設計格式 -光學系統不受感光材揮發氣體和周圍環境中化學物質影響
更新時間：2024-08-24
日本microtec半導體絲網印刷機 MT-80SP 對應了各類硅片尺寸的承載盒對承載盒型的全自動硅片用絲網印刷機。 設備結構為：將承載盒（對應各類規格）裝載至上料部，通過水平搬送機械臂自動取出后，進行預對位（缺口檢測）并印刷，之后再次收納至承載盒?？筛呔热詣拥剡M行焊接凸點及聚乙烯覆蓋等的印刷。可選裝進行FFU的設置。
更新時間：2024-08-24
日本 microscope3個同時視野 變焦顯微鏡YS05T 無需切換光路，3個同時視場，配備Ultra C接口 1.配備 1 個 C 接口的鏡筒，非常適合連接數碼相機和 iPhone。 2.同時三視新趨勢 3.標準 Ultra C 安裝座，具有齊焦/軸調節功能 4.總放大倍率為 6.7 倍至 45 倍的變焦體視顯微鏡
更新時間：2024-08-23
日本 microscope雙目變倍體視顯微鏡MyDesk Zunta 2 總放大倍數7x~45x 支架臂型（還包括標準桿架） 照明帶 LED 環形照明和電池供電
更新時間：2024-08-23
日本nykk在線露點儀6020 由于新軟件的開發，露點計 6020 具有高度的靈活性和各種可自由配置的菜單驅動選項，允許在各種應用中連續監測露點測量，從高純氣體到該露點計適用于干燥空氣、天然氣等。此外，內置微處理器可進行精確的校準調整，傳感器檢測部分提供出色的靈敏度、重復性和響應速度，使其成為高度可靠的露點計。
更新時間：2024-08-23
日本nykk 便攜式露點儀SADPmini 帶 PPM 和 PPB 顯示的便攜式露點計 最新的便攜式露點儀 SADPmini 可讓您快速輕松地測量氣體和干燥空氣中的水分（露點）。 測量頭與傳統SHAW露點儀/SADP型一樣，配備自動干燥室，測量完成后使傳感器保持干燥狀態并處于待機狀態，以便隨時進行露點測量。
更新時間：2024-08-23
日本 aandd天平隔振臺AD-1671 在有振動的環境中使用分析電子天平時，我們建議使用隔振臺。 ?機身尺寸：460mm x 400mm x 71mm ?體重：約27公斤 ?負載能力：約40公斤 ?材質：天然花崗巖 ?注意： 不可能完的全消除所有振動。
更新時間：2024-08-22
日本 rexxam清洗?干燥裝置 臺式型SCRD4 清洗?干燥裝置是使用不會產生毛細管力?表面張力的超臨界流體，可使超微細構件得到清洗?干燥且不會造成變形或破壞。 用途 1.連采用IPA（異丙醇）干燥都會受損的、具有超微細結構的晶圓。 2.具有縱橫比較大的MEMS等微細結構的晶圓。 3.硅氣凝膠那樣具有納米量級極細空間的材料制備。 4.加入添加劑、抗蝕劑等的溶解去除、剝離等。
更新時間：2024-08-22
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